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铃田(上海)科技有限公司
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膜厚仪
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产品名称/型号
产品简单介绍
OTSUKA大塚电子nanoSAQLA粒径仪 铃田科技代理
OTSUKA大塚电nanoSAQLA粒径仪铃田科技代理ELSZneo通过光散射评估物理性能到一个新的阶段。除了在稀溶液~浓溶液中测量zeta电位和粒径外,还可以测量分子量。 作为一项新功能,采用了多角度测量来提高粒度分布的分离能力。 它还可用于凝胶的颗粒浓度测量、微流变测量和网络结构分析。
OTSUKA大塚电子晶圆非破坏性测厚仪
SF-3/200 SF-3/300 SF-3/800 SF-3/1300
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚电子SF-3晶圆非破坏性测厚仪SF-3以超高速实时和高精度测量晶圆和树脂的非接触研磨和抛光过程。SF-3/200 SF-3/300 SF-3/800 SF-3/1300
多通道光谱仪大塚OTSUKA苏州办事处MCPD-9800-916C
MCPD-9800-916C
多通道光谱仪大塚OTSUKA苏州办事处MCPD-9800-916C
多通道光谱仪MCPD-9800-311C大塚OTSUKA苏州办事处
大塚MCPD-9800-311C
多通道光谱仪MCPD-9800-311C大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-9800-3683C多通道光谱仪大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-9800-3683C
MCPD-9800-3683C多通道光谱仪大塚OTSUKA苏州办事处
多通道光谱仪MCPD-9800-3095C大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-9800-3095C
多通道光谱仪MCPD-9800-3095C大塚OTSUKA苏州办事处
多通道光谱仪MCPD-9800-2285C大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-9800-2285C
多通道光谱仪MCPD-9800-2285C大塚OTSUKA苏州办事处
多通道光谱仪MCPD-6800大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-6800
多通道光谱仪MCPD-6800大塚OTSUKA苏州办事处
多通道光谱仪MCPD-9800大塚OTSUKA苏州办事处
MCPD-9800
多通道光谱仪MCPD-9800大塚OTSUKA苏州办事处
ZETA2000电位粒径分子量OTSUKA大塚苏州办事处
电位ZETA2000
ZETA2000电位粒径分子量OTSUKA大塚苏州办事处
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA2000电位粒径分子量
ZETA2000
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA2000电位粒径分子量
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-2000
ELSZ-2000
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-2000
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-2000ZS
ELSZ-2000ZS
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-2000ZS
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位分子量计测
电位分子量计测
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位分子量计测
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位测量
ZETA电位测量
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位测量
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA粒子径测量
ELSZseries
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA粒子径测量
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-NEO
ELSZ-NEO
OTSUKA大塚苏州办事处ZETA电位粒径分子量ELSZ-NEO
OTSUKA大塚电子MCPD-6800多通道光谱仪中国代理
OTSUKA大塚电子MCPD-6800多通道光谱仪铃田科技代理这是一款多通道多通道光谱仪,适用于紫外到近红外范围。 光谱测量可在短短 5 ms 内完成。 标准仪器的光纤允许各种测量系统,而无需指定样品种类。 除了显微光谱、光源发光、透射和反射测量外,它还可以与软件结合使用,以评估物体的颜色和薄膜厚度。
OTSUKA大塚电子MCPD-9800多通道光谱仪中国代理
OTSUKA大塚电子MCPD-9800多通道光谱仪铃田科技代理这是一款多通道多通道光谱仪,适用于紫外到近红外范围。 光谱测量可在短短 5 ms 内完成。 标准仪器的光纤允许各种测量系统,而无需指定样品种类。 除了显微光谱、光源发光、透射和反射测量外,它还可以与软件结合使用,以评估物体的颜色和薄膜厚度。
OTSUKA大塚电子OPTM-A3光学测量膜厚计代理
OTSUKA大塚电子OPTM-A3光学测量膜厚计铃田科技用简单操作实现了高精度的光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。采用了将必要的机器收纳在本体部的多功能一体式机箱,实现了稳定的数据获取。虽然价格低,但通过取得**反射率,也可以分析光学常数。
OTSUKA大塚电子OPTM-A2光学测量膜厚计代理
OTSUKA大塚电子OPTM-A2光学测量膜厚计铃田科技用简单操作实现了高精度的光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。采用了将必要的机器收纳在本体部的多功能一体式机箱,实现了稳定的数据获取。虽然价格低,但通过取得**反射率,也可以分析光学常数。
OTSUKA大塚电子OPTM-A1光学测量膜厚计代理
OTSUKA大塚电子OPTM-A1光学测量膜厚计铃田科技用简单操作实现了高精度的光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。采用了将必要的机器收纳在本体部的多功能一体式机箱,实现了稳定的数据获取。虽然价格低,但通过取得**反射率,也可以分析光学常数。
OTSUKA大塚电子FE-300F光学测量膜厚计代理
OTSUKA大塚电子FE-300F光学测量膜厚计铃田科技用简单操作实现了高精度的光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。采用了将必要的机器收纳在本体部的多功能一体式机箱,实现了稳定的数据获取。虽然价格低,但通过取得**反射率,也可以分析光学常数。
OTSUKA大塚电子ELSZneo粒径仪 带AS50铃田科技代理
OTSUKA大塚电子ELSZneo粒径仪 带AS50铃田科技代理ELSZneo通过光散射评估物理性能到一个新的阶段。除了在稀溶液~浓溶液中测量zeta电位和粒径外,还可以测量分子量。 作为一项新功能,采用了多角度测量来提高粒度分布的分离能力。 它还可用于凝胶的颗粒浓度测量、微流变测量和网络结构分析。
OTSUKA大塚电子ELSZneoSE粒径仪 铃田科技代理
OTSUKA大塚电子ELSZneoSE粒径仪铃田科技代理ELSZneo通过光散射评估物理性能到一个新的阶段。除了在稀溶液~浓溶液中测量zeta电位和粒径外,还可以测量分子量。 作为一项新功能,采用了多角度测量来提高粒度分布的分离能力。 它还可用于凝胶的颗粒浓度测量、微流变测量和网络结构分析。
OTSUKA大塚电子ELSZneo粒径仪 铃田科技代理
OTSUKA大塚电子ELSZneo粒径仪铃田科技代理ELSZneo通过光散射评估物理性能到一个新的阶段。除了在稀溶液~浓溶液中测量zeta电位和粒径外,还可以测量分子量。 作为一项新功能,采用了多角度测量来提高粒度分布的分离能力。 它还可用于凝胶的颗粒浓度测量、微流变测量和网络结构分析。
江苏代理OTSUKA大塚电子晶圆测厚系统
GS-300
铃田(上海)科技有限公司江苏代理OTSUKA大塚电子晶圆测厚系统 GS-300实现嵌入晶圆中的布线图案的图案对齐 GS-300满足半导体工艺的高通量需求 GS-300支持凹口对齐功能
OTSUKA大塚电子晶圆非破坏性测厚仪
SF-3
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚电子SF-3晶圆非破坏��测厚仪SF-3以超高速实时和高精度测量晶圆和树脂的非接触研磨和抛光过程。
浙江OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪
FE-5000S
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 FE-5000S铃田(上海)科技有限公司 FE-5000S除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000S还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理
FE-5000
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 FE-5000铃田(上海)科技有限公司 FE-5000除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。
OTSUKA大塚电子中国代理多通道光谱仪
MCPD-6800
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚电子MCPD-6800中国代理多通道光谱仪这是一款多通道多通道光谱仪,适用于紫外到近红外范围。 除了显微光谱、光源发光、透射和反射测量外,它还可以与软件结合使用,以评估物体的颜色和薄膜厚度。
OTSUKA大塚电子中国代理多通道光谱仪
MCPD-9800
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚电子MCPD-9800中国代理多通道光谱仪这是一款多通道多通道光谱仪,适用于紫外到近红外范围。 除了显微光谱、光源发光、透射和反射测量外,它还可以与软件结合使用,以评估物体的颜色和薄膜厚度。
OTSUKA大塚电子光学膜测厚仪 铃田科技
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚电子光学膜测厚仪使用光谱干涉测量的薄膜测厚仪可集成到各种制造设备中可进行实时薄膜厚度测量
上海代理OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪
FE-300
铃田(上海)科技有限公司上海代理OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪FE-300薄膜厚度计,通过操作简单的高精度光学干涉测量实现薄膜厚度测量。
OTSUKA大塚 江苏代理显微分光膜厚仪OPTM SERIES
铃田(上海)科技有限公司江苏代理OTSUKA大塚 显微分光膜厚仪OPTM SERIES 测量各种薄膜,晶圆,光学材料等涂层薄膜的厚度,以及多层薄膜的厚度,而不会具有破坏性和非接触性。
OTSUKA大塚椭圆光谱仪 FE-5000/5000S
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo OTSUKA大塚椭圆光谱仪 FE-5000/5000S
OTSUKA大塚 嵌入式膜厚监测仪
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo OTSUKA大塚 嵌入式膜厚监测仪
OTSUKA大塚 膜厚监测仪FE-300
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo OTSUKA大塚 膜厚监测仪FE-300
OTSUKA大塚 显微光谱仪OPTM
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 显微光谱仪OPTM
OTSUKA大塚 线扫描胶片测厚仪
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 线扫描胶片测厚仪OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo
OTSUKA大塚 超快光谱干涉仪测厚仪
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚 超快光谱干涉仪测厚仪
OTSUKA大塚动态光散射光度计DLS-8000系列
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚动态光散射光度计DLS-8000系列
OTSUKA大塚光纤动态光散射光度计FDLS-3000
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚光纤动态光散射光度计FDLS-3000
OTSUKA大塚 ZITA 电位、粒径和分子量测量系统 ELSZ-2000ZS
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚 ZITA 电位、粒径和分子量测量系统 ELSZ-2000ZS
OTSUKA大塚Zeta电位和粒度测量系统 ELSZneoSE
铃田(上海)科技有限公司代理OTSUKA大塚Zeta电位和粒度测量系统 ELSZneoSE
OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo
铃田(上海)科技有限公司OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo
日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S
FE-5000S
日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S
日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000
FE-5000
日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000
日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪
SF-3/200
日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200
日本大冢在线型线扫描膜厚仪
在线型扫描
日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪
日本大冢线扫描膜厚仪离线型
线扫描离线型
日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型
日本大冢在线膜厚检测装置
膜厚在线检测装置
日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置
日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIES
OPTM-A2
日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2
日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪
OPTM-A1
日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1
膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪
MCPD-3700
膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700
MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪
MCPD-9800
MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800
非接触式光学膜厚仪
AT-1500
非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500
OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700
FE-5700
FE-5700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700
OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700
FE-3700
FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700
OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50
RH50
RH50 OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统 对应微LED等微小样品的配光测定系统RH50.。 与光学模拟软件的联合是可能的,可以简单地高速取得2π空间全方位的光线。50×50mm尺寸以上请看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50
OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3Rθ
SF-3Rθ
SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统 *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3Rθ
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3Rθ
SF-3Rθ
SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3Rθ
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAF
SF-3AAF
SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAF
OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300
GS-300
GS-300 OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统 搭载模式匹配功能,X-Y定位精度在2um以下的系统。OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300
OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300
SF-3/300
SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300
OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300
SF-3/1300
SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300
OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BB
SF-3/BB
SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BB
OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500
AT-1500
AT-1500 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500
OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计
OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计
OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000
AT-5000
AT-5000 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000
OTSUKA大冢-线扫描膜厚计
OTSUKA大冢-线扫描膜厚计 在线薄膜生产现场能够对薄膜的膜厚进行全幅、全长测量的装置。 通过在独自的分光干涉法中组合新开发的高精度膜厚演算处理技术,以每*短0.01秒的测定间隔,可以进行500mm宽(1台使用时)的薄膜的膜厚测定。OTSUKA大冢-线扫描膜厚计OTSUKA大冢-线扫描膜厚计
OTSUKA大冢-分光器FE-5000S
FE-5000S
FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能够高精度的薄膜解析的分光中,通过实现测量角度的自动可变机构,也对应于所有种类的薄膜。除以往的旋转检光子法之外,通过设置相位差版的自动脱穿机构,提高了测定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
OTSUKA大冢-分光器FE-5000
FE-5000
FE-5000 OTSUKA大冢-分光器 除了能够高精度的薄膜解析的分光中,通过实现测量角度的自动可变机构,也对应于所有种类的薄膜。除以往的旋转检光子法之外,通过设置相位差版的自动脱穿机构,提高了测定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000
OTSUKA大冢-嵌入式膜厚监视器
OTSUKA大冢-嵌入式膜厚监视器 OTSUKA大冢-嵌入式膜厚监视器 高精度地实现具有波长依存性的多层膜测量!
OTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD series
MCPD series
MCPD series OTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD series
OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000
FE-3000
FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计 利用显微的微小领域的优良反射率的取得,通过高精度的光干涉法的膜厚解析可能的装置。 多种多样的样品的膜厚·光,除了半导体领域的图案样品、透镜和钻孔之类的形状样品之外,还有表面粗糙度和膜厚不均的样品。能够进行定数分析。OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000
OTSUKA大冢- 显微分光膜厚计
OPTM series
OPTM series OTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM series
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AA
SF-3AA
SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AA
OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200
SF-3/200
SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200
OTSUKA大冢-膜厚监视器FE-300
FE-300
FE-300 OTSUKA大冢-膜厚监视器 是一种通过简单操作实现高精度光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。 采用将必要的机器收纳在机身部位的一体化体型外壳,实现了稳定的数据的获取 通过获取低价位的优良反射率,也可以进行光学常数的分析。OTSUKA大冢-膜厚监视器FE-300OTSUKA大冢-膜厚监视器FE-300
参考测量装置 RETS-100nx Otsuka
它是一种延迟测量设备,支持所有类型的薄膜,例如用于 OLED 的偏光板、层压延迟膜和带有 IPS 液晶延迟膜的偏光板。 实现与超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度测量。 可以“无损、无剥离”地测量薄膜的层压状态。 此外,它还配备了简单的软件和校正功能,支持因样品重新定位而导致的错位,可轻松实现高精度测量。
膜厚测量系统 FE-3700 / 5700 Otsuka大冢
评估和分析不断发展的 FPD 制造过程中的各种薄膜
装载端口兼容薄膜厚度测量系统 GS-300Otsuka
它是一个具有模式匹配功能和 2um 或更小的 XY 定位精度的系统。
晶圆测厚仪SF-3Otsuka大冢苏州售
在晶圆等的研磨研磨工序中,以超高速、高精度无接触地测量晶圆和树脂的厚度。
线扫描测厚仪离线式 Otsuka大冢
是一种可以方便地离线检测面内膜厚不均匀性的设备,用于膜的研发和质量控制的抽检。 可以高速且高精度地测量整个表面。
线扫描测厚仪在线式 Otsuka大冢
它是一种可以在薄膜生产现场在线测量薄膜厚度的设备。 通过将开创的光谱干涉技术与新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合,可以以至少0.01的测量间隔测量宽度为500mm(使用一台时)的膜厚秒。
日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800
MCPD-6800
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