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产品资料

功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子

功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子
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  • 产品名称:功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子
  • 产品型号:FE-5000
  • 产品展商:OTSUKA大塚電子
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简单介绍
除了能够进行高精度薄膜分析的分光椭圆偏振光谱仪之外,还可以通过安装测量角度的自 功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子 动可变机构来支持各种薄膜。除了传统的旋转分析仪方法之外,通过提供相位差板的自动 功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子 回缩机构来提高测量精度。
产品描述
除了能够进行高精度薄膜分析的分光椭圆偏振光谱仪之外,还可以通过安装测量角度的自动可变机构来支持各种薄膜。除了传统的旋转分析仪方法之外,通过提供相位差板的自动回缩机构来提高测量精度。

(详情请咨询TEL: QQ;1280713150 白先生)

特点
  • 椭圆参数测量可以在紫外和可见光(250-800nm)的波长范围内进行
  • 纳米级多层薄膜的厚度分析
  • Ellipso光谱可以通过400多ch的多通道光谱快速测量
  • 对应于通过可变反射角度测量的薄膜的详细分析
  • 通过创建光学常数数据库并添加配方注册功能,可以增强操作的便利性
  • 可以通过层膜配合分析通过光学常数测量来控制膜厚度/膜质量

 

测量项目
  • 椭圆参数(tanψ,cosΔ)测量
  • 光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
  • 薄膜厚度分析

 

应用程序使用
  • 半导体晶片
    的栅氧化膜,氮化物膜
    的SiO 2,硅X ö ÿ,氮化硅,的SiON,氮化硅X,AL 2 ö 3由SiN X ö ÿ,多晶Si,硒化锌,BPSG,氮化钛
    的抗蚀剂(波长色散)的光学常数
  • 化合物半导体
    Al x Ga (1-x) As多层膜,非晶硅
  •  用于等离子显示器的FPD
    定向膜
    ITO,MgO等
  • 各种新材料
    DLC(Diamond Like Carbon),超导薄膜,磁头薄膜等
  • 光学薄膜
    TiO 2,SiO 2,多层膜,减反射膜,反射膜
  • 光刻领域
    g线(436纳米),h线(405纳米),i线(365纳米)中,n在各波长,诸如KrF受(248nm的)中,k评价
产品规格
模型 FE-5000S FE-5000
测量样本 反射测量样本
样本大小 100 x 100毫米 200 x 200毫米
测量方法 旋转分析仪方法* 1
测量的薄膜厚度范围(nd) 0.1纳米 -
事件(反射)角度范围 45到90° 45到90°
事件(反射)角度驱动系统 自动签名栏的驱动方法
入射点直径* 2 关于φ2.0 关于φ1.2sup * 3
tanψ测量精度 ±0.01以下
cosΔ测量精度 ±0.01以下
膜厚的可重复性 0.01%以下* 4
测量波长范围* 5 300至800纳米 250至800纳米
光谱探测器 多色仪(PDA,CCD)
测量光源 高稳定性氙灯* 6
舞台传动系统 手册 手动/自动
加载器兼容 不当 是的
尺寸,重量 650(W)×400(D)×560(H)mm 
约50kg
1300(W)×900(D)×1750(H)mm 
约350kg * 7
软件
分析 *小二乘薄膜分析(折射率模型函数,柯西色散方程模型方程,如NK-柯西色散方程模型分析)
理论方程分析(本体表面NK分析,角度依赖性同时分析)

* 1可以驱动偏光片,可以去除对死区有效的延迟片。
* 2取决于短轴·角度。
* 3小点对应(选项)
* 4使用VLSI标准SiO2膜(100nm)时的值。
* 5可以在此波长范围内进行选择。
* 6光源根据测量波长而变化。
* 7选择自动舞台时的值。

原则

包括s波和p波的线性偏振光入射到样本上,并测量反射光的椭圆偏振光。s波和在相位p波的变化和独立地振幅比tanψ和p波和S波的反射率的相位差的两个偏振取决于获得样品Δ的转换参数。

光谱椭偏仪原理
 

tanψ,consΔ被称为椭球参数,椭圆光谱法测量这两个参数的波长相关谱。

光学系统图

FE-5000光学系统绘图

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