功能齐全 重庆内藤销售 FE-300V 薄膜厚度监视器 OTSUKA大塚電子

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• 对应于从薄膜到厚膜的宽膜厚度
• 使用反射光谱的厚度分析
• 结构紧凑·成本低，但非接触式，非破坏性和高度**的测量
• 简单的条件设置和测量操作！易于测量任何人的膜厚度
• 通过非线性*小二乘法，优化方法，PV方法，FFT分析方法等可以进行各种各样的膜厚度测量。
• 通过非线性*小二乘法的膜厚度分析算法可��进行光学常数分析（n：折射率，k：消光数计数）

• **反射率测量
• 薄膜厚度分析分析（10层）
• 光学常数分析（n：折射率，k：消光米数）

• 功能性膜，塑料
  的透明导电膜（ITO，银纳米线），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA， 胶，粘合剂，保护膜，硬外套，指纹等
• 半导体
  化合物半导体，Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，蓝宝石等
• 表面处理的
  DLC涂层，防锈剂，防雾剂等
• 光学材料
  过滤器，AR涂层等
• FPD
  LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有机薄膜，密封剂）等
• 其他
  硬盘，磁带，建筑材料等

使用大冢电子，光学干涉测量和我们自己的高精度分光光度计可实现非接触，无损，高速和高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是通过使用由使用如图1所示的分光光度计的光学系统获得的反射率来获得光学膜厚度的方法。例如，如图1所示，在金属基板上涂布膜的情况下，从目标试样的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透过膜的光在基板（金属）或膜界面（R2）上反射。测量此时由于光程差引起的相移引起的光学干涉现象，并根据所获得的反射光谱和折射率计算膜厚度的方法称为光学干涉方法。有四种分析方法：峰谷方法，频率分析方法，非线性*小二乘法和优化方法。

* 1请与我们联系以获取详细信息
* 2 
超大规模集成电路薄膜厚度保证（100纳米二氧化硅/硅）* 3 所述的测量保证值范围对于VLSI薄膜厚度标准（100纳米二氧化硅/硅）重复测量的不确定性（包含因子2.1）