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离子研磨仪关键结构

日期：2026-10-07 06:21
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摘要：离子研磨仪关键结构

关键结构

  • 真空系统：机械泵 + 分子泵，维持高真空（10⁻⁴–10⁻⁶ Pa），避免离子散射与样品污染。
  • 离子源（离子枪）：产生并加速氩离子，分 ** 宽束（BIB，大面积）与聚焦束（FIB，微区）两类；工业 / 科研常用单枪或多枪（3 枪）** 配置。
  • 样品台：精密可控（平移 / 旋转 / 倾斜），带冷却（水冷 / 液氮）防热损伤，可适配*大50×50 mm样品。
  • 控制与监测：实时观察光学显微镜、束流 / 能量闭环控制、终点检测（自动停磨）。

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