Plasma1000等离子体发射光谱仪光学系统及所有相关部件均密封在光学结构内部，可避免因灰尘或震动引起的干扰。新型高性能读出系统可同时**处理输入数据，其处理速度比以往的系统快50倍。这样，大大缩短了分析时间，提高了分析精度。根据不同的分析要求，可分析的要求，可分析的元素波长范围从140nm到670nm。
所有金属行业需要分析的化学元素均可测定，包括：痕量碳（C），磷（P）,硫（S）,特别是能实现氮（N）元素的分析。配有完备的工作曲线,适用于分析相应的基体（金属基体），如：Fe, Al, Cu, Ni, Co,Ti,Mg,Zn,Pb,Sn。覆盖了全元素分析范围，可根据具体需要选择分析元素。
应用范围非常广泛，适合压铸、熔铸，钢铁或有色金属行业的炉前金属分析要求，进、出厂材料检验以及汽车、机械制造等行业的金属材料的分析。 仪器介绍 电感耦等离子体原子发射光谱仪(ICP—AES)主要用于液体试样(包括经化学处理能转变成溶液的固体试样)中金属元素和部分非金属元素的定量分析。将样品溶液以气溶胶形式导入等离子体炬焰中，样品被蒸发和激发，发射出所含元素的特征波长的光。经分光系统分光后，其谱线强度由光电元件接受并转变为电信号而被记录。根据元素浓度与谱线强度的关系，测定样品中各相应元素的含量。 Plasma1000等离子体发射光谱仪仪器参数 分光系统 光路形式：Czerny-Turner型 光栅类型：离子刻蚀全息平面光栅 刻线密度：3600g/mm 步进电机*小驱动步距：0.0004nm 光室恒温：(30± 0.2)℃ 分辨率：不大于0.008nm 出射、入射狭缝宽度：20μm 光室冲氩或氮（流量可调） 高频发生器 震荡频率：40.68MHz 震荡类型:自激式 功率稳定度：0.1%（长期25 ℃典型值） 工作线圈：3圈空心铜管外套聚四氟乙烯管 其他参数 进样系统 进样方式：蠕动泵进样 配有多种雾室（旋流雾室、双筒雾室和耐氢氟酸雾室） 雾化器：同心雾化器 工作环境 仪器室内无腐蚀性气体；空中的尘埃粒子须保持*低。 室内温度18℃～26℃；室温应达到稳定状态，温度变化率应小于1℃/h 相对湿度不大于70％。
尺寸和重量 1550mm（长）*759mm（宽）*1340mm（高） 重量： 240公斤 仪器特点 1）分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能； 2) 输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定； 3) 优良的光学系统，先进的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良； 4）极小的基体效应； 5）测量范围宽， 超微量到常量的分析,动态线性范围5—6个数量级； 6）检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级； 7）良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于国家A级标准（JJG768-2005）； 8）功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得*佳的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告.
激发能量、频率连续可调全数字固态光源，适应各种不同材料 原位单次放电采集的**技术（SDA）有效提高分析精度 可变延时积分技术，大大降低背景干扰 高精度光电倍增管负高压独立供电连续可调技术，调整更**，可程序调整，提高 动态范围 单板式透镜架，擦拭时大大降低对光室的污染 基于ARM9的仪器状态实时监控系统 USB采集，通用性更强 固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性 绿光背景灯，加快响应速度，提高短期分析精度 铜火花台底座，提高散热性及坚固性能 采用微处理器控制的数字化激发光源、专门针对发射光谱分析开发的CCD检测器、高性能读出系统、新型火花台、**的光学系统以及****的ICAL单样品标准化等，是这台仪器所具有的*显著的特点。