将宽波长光带照射到待测物体上，根据前后表面反射光的干涉强度光谱来测量薄膜厚度。 将测量结果除以待测物体的折射率，即可确定薄膜厚度。 在多层薄膜的情况下，可以通过干涉从每层薄膜的边界表面反射的光来测量每层薄膜的厚度。
将探头与待测物体接触，根据磁通密度随磁铁 "拉力 "强弱变化时流经电磁铁的电流大小变化来测量膜厚。 涂层（非磁性金属层、无机层和有机层）的厚度可以在时间调节金属基材上进行测量。 探头设计用于测量涂层和内衬（非磁性、无机和有机层）的厚度。 如果涂层较厚，探头与基体之间的距离就会较大，从而导致流经电磁铁的电流变化较小。 利用探针顶端拉动磁铁的力与到基底的距离成正比这一特性来计算薄膜厚度。 如果涂层已经磁化，则无法测量准确的薄膜厚度。 基体：磁性材料，如铁、钢和铁素体不锈钢。 涂层：非磁性材料，如电镀、油漆和树脂薄膜
薄膜厚度是通过测量含有线圈的探头接触通电时产生的涡流来测量的。 膜厚较薄时，探头与基体之间的距离较近，因此金属表面的涡流较强。 如果涂层很热，探头与基体之间的距离就会拉大，因此涡流值就会减弱。 膜厚是利用金属表面的涡流值与基体距离成正比这一特性计算出来的。 电涡流涂层厚度测量仪可分为接触式测量仪和非接触式测量仪，前者通过电涡流的振幅测量涂层厚度，后者通过电涡流的相位差测量涂层厚度。 使用涡流膜厚计时，涂层必须是不导电的绝缘膜。 基底：铝、铜和其他非磁性金属。 涂层：绝缘涂层，如塑料、树脂、橡胶等。
膜厚是根据红外光照射被测物体并对透射光（或反射光）进行光谱分析所获得的光谱来测量的。 当红外线辐射照射涂层时，根据涂层的材料和厚度，在特定波长处会出现红外线吸收现象。 根据涂层材料的 "吸收率与膜厚之间的关系"，可以计算出需要测量的膜厚。 三波长法通常用于需要实时测量结果的场所，以减少与膜厚测量无直接关系的因素（如光源波动、被测物体颜色浑浊等）的影响。
探头与待测物体接触，根据传感器发出的超声波反射回基底所需的时间来测量薄膜厚度。 超声波膜厚计的膜厚由以下公式确定 D = 1/2 x C x t D：薄膜厚度（米）；C：被测物体的声速（米/秒）；t：超声波在被测物体上来回传播的时间（秒）。 待测物体声速的近似值是根据每种材料确定的。 然而，同一种材料的不同类型会有不同的声速。 因此，在使用超声波薄膜测厚仪时，需要根据实际测量物体进行调整（校准）。