Filmetrics F20光学膜厚测量仪 膜厚测量仪
美国Filmetrics光学膜厚测量仪通过分析薄膜的反射光谱来测量薄膜的厚度，通过非可见光的测量可以测量薄至1纳米或厚至13毫米的薄膜。利用反射式光谱测量技术原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上*具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。
其可测量薄膜厚度在10埃至10毫米之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。
通过Filmetrics膜厚测量仪*新反射式光谱测量技术,*多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。
极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:
F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区至1700nm近红外线区)为任意携带型，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。
F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供*小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。
F70:仅通过在F20基本平台上增加镜头，使用Filmetrics*新的颜色编码厚度测量法（CTM），把设备的测量范围极大的拓展至3.5mm。
F80 膜厚测试仪基于光谱成像技术，通过在每个测量位置附近采集大量的反射频谱来生成厚度图像，用来进行绝缘涂层的厚度，测量样品的尺寸从2英寸～12英寸。
使用F20**分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。
F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头集合和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。
膜层实例
几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：
sio2（二氧化硅） sinx（氮化硅） dlc（类金刚石碳）
photoresist（光刻胶） polyer layers（高分子聚合物层） polymide（聚酰亚胺）
polysilicon（多晶硅） amorphous silicon（非晶硅）
基底实例：
对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。
包括：
silicon（硅） glass（玻璃） aluminum（铝）
gaas（砷化镓） steel（钢） polycarbonate（聚碳酸脂）
polymer films（高分子聚合物膜）