反射光譜薄膜測厚儀

測量膜厚范圍

15nm-50um

光譜波長

400 nm - 1100 nm

主要測量透明或半透明薄膜厚度

• 氧化物
• 氮化物
• 光刻膠
• 半導體（硅，單晶硅，多晶硅等）
• 半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）
• 硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）
• 聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
• 金屬膜（點擊圖片可查看詳細資料）
•   

特點

• 測量和數據分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
• 包含了500多種材料的光學常數，新材料參數也可很容易地添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
• 體積較小，方便擺放和操作
• 可測量薄膜厚度，材料光學常數和表面粗糙度
• 使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析

精度

0.01nm或0.01%

準確度

0.2%或1nm

穩定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

標準3mm,可以小至3um

要求樣品大小

大于1mm

分光儀/檢測器

• 400 - 1100 nm 波長范圍
• 光譜分辨率: < 1 nm
• 電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W
• 

光源

• 5W的鎢鹵素燈
• 色溫：2800K
• 使用壽命:1000小時

反射探針

• 光學纖維探針，400um纖維芯
• 配有分光儀和光源支架

載樣臺

測量時用于放置測量的樣品
 

通訊接口

USB接口，方便與電腦對接

TFCompanion軟件

• 強大的數據庫包含兩500多種材料的光學常數（n：折射率，K：消失系數）
• 
• 誤差分析和模擬系統，保證在不同環境下對樣品測量的準確性
• 可分析簡單和復雜的膜系
• 

設備尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg