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產品名稱:
脈沖激光沉積
產品型號:
PLD
產品展商:
MTI
產品價格:
0.00 元
簡單介紹
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據實驗要求設計制作該款設備以適應各類薄膜研究的需要。
我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000的環境體系要求
脈沖激光沉積的詳細介紹
| 產品型號： |
脈沖激光沉積PLD
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| 產品簡介： |
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據實驗要求設計制作該款設備以適應各類薄膜研究的需要。
我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000的環境體系要求），不會造成環境污染；
該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害！
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| 主要特點： |
1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；
2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有限制；
4. 發展潛力巨大，具有極大的兼容性；
5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
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| 技術參數： |
電源：單相50/60Hz 220v
加熱(功率)電源：2.5KW 16A
控制柜電源空氣開關：25A空氣開關
薄膜生長室溫度：室溫1200℃
靶材轉速：轉速20-30轉/分
質量流量控制器的標定：氮氣
質量流量控制器的流量范圍：0-500sccm
機械泵抽氣速率：4L/S
薄膜生長室真空度：5min 約40mtor，20min 約15mtor，極限真空10mtor
爐腔內徑：45mm
極熱溫區：200mm
恒溫區長度：約100mm
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| 產品規格： |
凈重： |
| 可選配件： |
103高真空系統、供氣（混氣）系統、各種高純氧化鋁坩堝及石英坩堝、雙級旋片機械泵、高純度剛玉及石英爐管等
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| 產品證書： |
 CE認證 |
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