13.净重：7.5Kg
SPIN-51匀胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺，主要应用于实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。