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- 产品名称：真空箱式炉 ZMF-1200C-M
- 产品型号： ZMF-1200C-M
- 产品展商：其它品牌
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简单介绍
本公司研发生产的ZMF-1200C真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的碳化实验。该炉采用电阻丝加热，PID程序温控仪控制。温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定，并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热熔小，温度升降控制灵活、节能等特点。设备可根据真空度的需要，分别选用机械泵和真空机组，非常适用于试验和小批量生产使用。
设备型号 ZMF-1200C
*高温度 1200℃
使用温度 ≤1100℃
炉膛有效尺寸 250*300*250mm
炉膛材料 氧化铝、高铝纤维制品
热电偶类型 K型热电偶
控温精度 ±1℃，30段可编程控温，PID参数自整定触摸屏控制
加热元件 电阻丝
冷态极限真空
产品描述
设备型号 ZMF-1200C
*高温度 1200℃
使用温度 ≤1100℃
炉膛有效尺寸 250*300*250mm
炉膛材料 氧化铝、高铝纤维制品
热电偶类型 K型热电偶
控温精度 ±1℃，30段可编程控温，PID参数自整定触摸屏控制
加热元件 电阻丝
冷态极限真空 ≤30Pa
外形参考尺寸 约720*960*
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