原子层沉积系统 SAL1000G
产品简介
原子层沉积系统SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号,与主机和控制电源相结合,追求仅在桌面上更容易操作。 它能够处理多达4“晶圆的沉积,并对每个部件采取保护措施
产品详细信息
AGUS提供沉积测试服务作为我们支持的一部分,以提高实验准确性。请随时与凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司联系。
- 多样性 -
· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。
· 前驱体标配两组阀门和气瓶。
· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。
· 可选择基片自动旋转支架。
· 可选择粉体沉积配件。
· 可选择经济实惠的废气处理设备。
- 表现 -
· 保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。
· 通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。
· 与CVD和PVD相比,可以获得更好的沉积,特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。
- 操作界面友好 -
· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。
· 可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。
· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。
- **性 -
· 这是具有各种互锁功能的上等设备。
- 具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。
性能 |
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真空度 |
到达压力 |
≤5Pa |
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成膜性能 |
膜厚分布 |
≤± 3% (φ 100mm) |
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设备构成 |
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设备型号 |
SAL1000G |
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成膜方向 |
下表面 |
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基底尺寸 |
φ 100mm or 4 inch Max |
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基底加热器温度 |
350℃ Max |
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前驱体数 |
2 |
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前驱体温度 |
150℃ Max |
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净化气体 |
N2 (气体控制:带流量计针型阀) |
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手套箱 |
有机玻璃,真空-氮气吹扫式 |
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真空泵 |
162L/min 旋片式真空机械泵 |
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重量 |
本体:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg |
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可选配置 |
基片自动旋转支架 粉体沉积配件 废气处理设备 前驱体加热器- 200℃ |
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安装要求 |
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电源要求 |
电源 |
3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz |
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接地 |
<100Ω |
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线缆 |
5m 附赠 |
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N2吹扫气体 |
供给压力 |
0.1 ~.0.2Mpa |
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接口 |
1/4 Swagelok |
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压缩空气 |
供给压力 |
0.6 ~0.8Mpa |
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接口 |
φ6mm 接口 |
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真空泵排气口 |
排气口 |
KF-25法兰 |
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设备排气口 |
排气口 |
φ38mm x L28软管适配器 |
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安装尺寸 |
W1000 x D700 x H900 |