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意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
ADEV 4402-N₂ 是意大利 ADEV 公司推出的,专用于高纯氩气(Ar)、氦气(He)中微量氮气杂质在线监测的高精度分析仪,采用高频氩放电等离子体发射光谱法(HFADD-PED),核心定位为工业级连续在线、低漂移、免耗材,适配空分、电子、半导体、特种气体等场景。
一、核心测量原理
采用高频氩放电等离子体发射光谱技术(HFADD-PED):
意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
激发电离:样气进入高频电磁场(~100 MHz)与高压作用的石英检测腔,氩 / 氦基体被电离形成稳定等离子体并发光。
特征谱线:氮气(N₂)杂质受激,发射氮气专属特征紫外光谱。
定量检测:光学系统滤光、光电检测系统测量光强,经算法换算为氮气浓度。
技术特点:无放射性源、检测器无消耗、无易损电极、无需更换传感器。
二、基础技术参数
1. 测量规格
测量对象:高纯氩气(Ar)、高纯氦气(He)、氖气(Ne)、氪气(Kr)、氙气(Xe)中的微量氮气
标准量程:
0–1 ppm(分辨率 10 ppb,检出限 10 ppb)
0–10 ppm(分辨率 0.1 ppm)
意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
0–100 ppm(分辨率 1 ppm)
0–1000 ppm(分辨率 10 ppm)
量程模式:多量程可选 / 自动切换,支持双量程定制
检出限(LOD):≤ 10 ppb(0.01 ppm)
测量精度:±1% 满量程(FS)
重复性:≤ 0.5% FS
线性偏差:±1% FS
响应时间(T90):≤ 10 秒
稳定性(24h 漂移):±1% FS
2. 样气要求
样气压力:5–30 psig(推荐 10–25 psig)
样气流量:50–150 mL/min(内置质量流量控制器 MFC **控制)
样气温度:5–40 ℃
样气纯度:基体为惰性气体,禁止用于氧气、氢气、氮气等非惰性基体
样气预处理:干燥(露点 ≤ -40 ℃)、无油、无尘(颗粒 ≤ 0.1 μm)
3. 环境与电气
工作温度:5–40 ℃
存储温度:-20–60 ℃
相对湿度:≤ 85% RH(无冷凝)
供电电源:110/220 VAC ±10%,50/60 Hz,约 30 VA
外形尺寸:标准 19 英寸 3U 机架式
安装方式:机柜安装、面板安装
4. 接口与输出
气路接口:1/8"或 1/4" 卡套接头
意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
模拟输出:4–20 mA 隔离电流输出(双路可选)
数字通信:RS232、RS485(Modbus)、Profibus-DP、以太网
开关量输出:4 路继电器(高浓度报警、低浓度报警、故障报警、电源异常)
显示操作:5.6 英寸彩色 TFT 触摸屏,中文 / 英文界面
数据功能:自动数据存储、历史趋势曲线、报警日志、故障自诊断
三、核心技术优势
超高灵敏度
检出限达 10 ppb,可精准检测 99.9999%(6N) 级超高纯惰性气体中的氮杂质,满足半导体、电子行业严苛质控要求。
长期稳定、低漂移
内置温度补偿、压力补偿、流量稳定控制系统,24 小时漂移 ≤ ±1% FS,月漂移极低,保障长期连续测量准确性。
真正免维护、无耗材
等离子体检测器无消耗、无电极损耗、无化学试剂,无需定期更换传感器 / 耗材,年度维护仅需检查气路清洁度。
抗干扰能力强
光学滤波与算法优化,抗 H₂O、CO₂、CH₄ 等微量杂质干扰;可耐受少量氧气(≤ 2%)共存,适配粗氩工况。
智能工业设计
触屏操作、自动量程切换、一键校准、多级权限管理
支持远程监控、数据上传、远程诊断
防护等级 IP54,适配工业现场复杂环境
四、典型应用行业
空气分离(空分):液氩 / 氦精馏塔、粗氩塔、精氩塔、产品气充装、钢瓶气质控
半导体 / 电子:晶圆光刻、蚀刻、外延、离子注入、CVD 保护气纯度监测
特种气体:电子级高纯 Ar/He 生产、标准气体配制、特气充装检测
意大利 ADEN 4402-N₂ (参数详解)微量氮高频离子放电分析仪
科研 / 实验室:超导、低温物理、惰性气氛保护实验、质谱仪载气质控
激光 / 医疗:准分子激光气体、医疗用高纯惰性气体纯度保障
五、选型与注意事项
标准 4402-N₂:常规高纯 Ar/He 监测、空分、电子行业通用(性价比**)
4402-N₂ 增强版:半导体 / 超纯气 / 亚 ppb 级要求场景
前置配置:必须配套干燥过滤器、除尘过滤器、减压稳压阀,保障样气干燥洁净
校准方式:推荐使用 8–10 ppm N₂/Ar 标气 量程校准,可选配内置纯化器实现免零点气校准
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