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SEN特殊光源中紫外线表面清洗的原理介绍

   SEN特殊光源有低压灯,高压灯, UV清洗灯,UV固化灯,**灯,大型光清洗机,桌上型清洗机,手提式固化机,UV紫外线臭氧**机等各种紫外线臭氧产品。产品主要用于 液晶、触屏、的玻璃基板清洗以及ITO清洗、树脂固化、塑料、金属、树脂、汽车部件的光净化等行业。
 
    紫外线清洗主要原理为紫外线灯发出的 185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成例子,流利态院子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水,二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,彻底**物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。

    清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗,等离子清洗,离子清洗等。湿洗有水洗,碱清洗,酸清洗,液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留,因此对于高精密世界来说也是个污染。

    与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染,却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称UV臭氧清洗)。在纳米技术世界里,虽然看不到有机性污染,但是有机污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。

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