半导体百级无尘车间

     半导体百级无尘车间生物GMP车间、食品QS车间、化妆品GMP车间净化工程、印刷无尘曝光车间、软包装类无尘洁净车间、激光工业洁净室、光通讯净化厂房、实验室洁净工程、IC封装洁净室工程、电子工业，特别是迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高。在对洁净度提出更高要求方面，电子工业是促进前进的动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定性因素。技术越进步，尺寸就越小。

     如果落在集成电路上的粒子大于小光刻尺寸1%～2%，就会使集成电路成为废品。金属粒子、离子、**等都是产生废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响集成电路生产的成品率。同时，对微电子产品的功能要求越来越高，投资规模越来越大，就对质量水平的要求越来越严格。电子工业已成为世界上巨大的工业部门，预计在2015年，小的光刻尺寸可到0.05微米。微电路存贮量可达64千兆比特。

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