电子束蒸发镀膜仪 CY-EB

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产品型号：CY-EB

品牌：成越科仪

公司名称：郑州成越科学仪器有限公司

所在地：河南郑州

发布时间：2019-01-17

浏览次数：2152 次

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产品简介

电子束蒸发镀膜仪系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。电子束蒸发镀膜仪可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。

电子束蒸发镀膜仪设备用途：

用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。

电子束蒸发镀膜仪技术参数：

结构形式		真空室采用U型箱体前开门，后置抽气系统
真空室		500×500×600mm²
真空系统配置		复合分子泵、机械泵、闸板阀
极限压力		≤6. 67×10^-5Pa (经烘烤除气后）；
恢复真空时间		45分钟可达到6. 67×10^-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气后）
电子束蒸发源	e型电子枪	阳极电压：6kv、8kv;
	数量（套）	1
	坩埚	水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml
	功率	0一6 KW可调
电阻蒸发源 (可选）	电压	5、10V
	功率	电流300A，*大输出功率3KW
	数量	1套，可切换
	水冷电极	3根，组成2个蒸发舟
工件架类型及尺寸		基片尺寸：可放置4”基片，加热zui高温度800℃±1℃ ,基片可连续回转，转速5~60转/分基片与蒸发源之间距离300~350mm可调，手动控制样品挡板组件1套
气路系统		200SCCM质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪		监测膜厚显示范围：0~99 u 9999A;
设备占地面积	主机	900×800mm²
设备占地面积	电控柜	800×800mm² (两个）