激光热膨胀系统（L75 激光热膨胀系统（L75

未来热膨胀测量技术的趋势—高精度和高分辨率。L75 激光热膨胀仪的优越性体现在精度是传统顶杆热膨胀仪的33倍。测量原理是麦克尔逊（Michelson）干涉计，因而消除了系统误差，**保护的测量技术可以研究*新的高科技超低膨胀材料（ULE），Linseis成功地将*新的技术应用于此系列热膨胀仪和优化设计系统，使之易用性和传统的热膨胀仪一样。
样品的制备不需要特殊技术， 和传统的热膨胀仪制样一样简单；任何形状的样品只要尺寸不超过*大样品尺寸都可以测量。

应用：
材料的*高精度热膨胀测量， 材料包括：碳，石墨，复合材料，玻璃，半导体材料等。特殊材料的微结构研究， 如次级相转变等。

原理：
激光热膨胀仪 “Michelson Prinzip”

温度范围：
-180—500°C
RT—1000°C

样品长度：
up to20mm

样品直径：
up to 7mm

分辨率：
0.3 nm

气氛：
惰性、氧化、还原、真空

真空度：
10E-5mbar

样品制备：
和传统热膨胀仪一样