薄膜厚度测试仪是适用于各种薄膜材料厚度**监测的仪器，目前广泛应用于各类仪器当中，尤其是在一些国家重点投入和支持的科研领域中，如制备有机发光二极管(OLED)的真空热蒸镀仪、制备太阳能电池的真空热蒸镀仪以及一般的热蒸镀仪和溅射仪。 薄膜厚度测试仪通过对蒸镀或者溅射出的材料的**监测，可以直观地读出响应沉积的薄膜厚度。以OLED真空热蒸镀仪为例，大部分的蒸镀材料为有机材料和金属电极材料(如铝、银等金属)且*小厚度需要**到0.1纳米，因此对薄膜厚度测试仪的厚度和速度分辨率有较高的要求。
涂层厚度测试科学早在1947年就出现了，当时Steingroever开始使用磁性吸引原理。简而言之，它源于磁铁与其对铁基材的吸引力的关系的物理学。这种科学的发展导致了磁感应及其对应物 - 用于有色金属的涡流原理。这一点的意义在于认识到现在和现在的涂层厚度测量都受物理定律的支配，更重要的是认识到物理定律没有改变。
厚度测试仪使用探针或传感器产生信号，通过涂层传播到基底。如牛顿所述，一旦信号到达底物就会发生反应。距离必须从一个起点引用(即前面指出的“零参考”)。该起点需要保持不变，以便输出或涂层厚度值准确可靠。例如，如果将起始点设置为平面，然后通过测量半径来更改规则，则输出(厚度读数)将会偏斜。这很容易在前一页的插图中显示。正如您所看到的，首先将仪器放置在平坦的表面上，然后用来测量圆形部分。磁通线增加了行程，但增加的原因是零件几何形状，而不是涂层厚度。即使没有实际的涂层存在，仪表也会显示正值并显示涂层的存在。
无论如何，表面轮廓都会影响所显示的涂层厚度值。它总会使仪器夸大涂层的真实厚度。表面粗糙程度越大，读数偏差越大。我知道，量规制造商的规格或操作说明中没有任何内容为您提供特定的值或“补偿器”，以消除表面粗糙度的影响。原因是因为表面粗糙度不同，其变化的程度只能通过测量来确定。
厚度测试仪技术规格：
涂层厚度测试科学早在1947年就出现了，当时Steingroever开始使用磁性吸引原理。简而言之，它源于磁铁与其对铁基材的吸引力的关系的物理学。这种科学的发展导致了磁感应及其对应物 - 用于有色金属的涡流原理。这一点的意义在于认识到现在和现在的涂层厚度测量都受物理定律的支配，更重要的是认识到物理定律没有改变。
厚度测试仪使用探针或传感器产生信号，通过涂层传播到基底。如牛顿所述，一旦信号到达底物就会发生反应。距离必须从一个起点引用(即前面指出的“零参考”)。该起点需要保持不变，以便输出或涂层厚度值准确可靠。例如，如果将起始点设置为平面，然后通过测量半径来更改规则，则输出(厚度读数)将会偏斜。这很容易在前一页的插图中显示。正如您所看到的，首先将仪器放置在平坦的表面上，然后用来测量圆形部分。磁通线增加了行程，但增加的原因是零件几何形状，而不是涂层厚度。即使没有实际的涂层存在，仪表也会显示正值并显示涂层的存在。
无论如何，表面轮廓都会影响所显示的涂层厚度值。它总会使仪器夸大涂层的真实厚度。表面粗糙程度越大，读数偏差越大。我知道，量规制造商的规格或操作说明中没有任何内容为您提供特定的值或“补偿器”，以消除表面粗糙度的影响。原因是因为表面粗糙度不同，其变化的程度只能通过测量来确定。
厚度测试仪技术规格：
- 膜厚范围：5nm-150um
- 膜厚精度：±1.5?(基于NIST追溯氧化物薄膜,100nm到1um厚度)
- 波长范围：190nm-1700nm
- 测试点尺寸：2mm-5mm
- 样品尺寸：2mm-300mm
- 光谱分辨率：0.3-2nm
- 光源：氘卤素灯
- 探测器类型：2048像素CCD阵列/512像素 InGaAs阵列(NIR)
- 测试时间：小于1s/点
- 数据获取时间：0.2s
公安机关备案号：
