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- 产品名称:VTC-16PW小型粉末PVD包覆系统
- 产品型号:
- 产品展商:其它品牌
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- 发布时间:2019-01-31
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简单介绍
小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。
产品描述
产品型号
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小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW
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产品特点
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1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆
2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料
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技术参数
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1、输入电压:220 VAC 50/60Hz
2、电源输出:1600 VDC 250 W
3、*大电流:150 mA .
4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头
5、振动样品台:
样品台振动频率可调节:6-33Hz
样品台直径为50mm
建议样品量: < 500 mg
建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um
石英腔体尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H
6、真空度:
①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶*大真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)
7、CE认证
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产品规格
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外形尺寸:长460×宽330×高810mm 净重:20Kg
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注意事项
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警告:
1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套
2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理
注意:粉末样品必须干燥和分散
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