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- 产品名称:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
- 产品型号:
- 产品展商:科晶
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- 发布时间:2018-09-01
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简单介绍
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
产品描述
产品名称
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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产品型号
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VTC-600-3HD
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安装条件
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本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%���上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套
接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
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主要特点
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1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
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技术参数
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1、电源电压:220V 50Hz
2、总功率:<2.5KW
3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar)
4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
5、靶枪数量:3个
6、靶枪冷却方式:水冷
7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
8、直流溅射功率:500W(可选)
9、射频溅射功率:300W/500W(可选)
10、载样台:Ø140mm
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、保护气体:Ar、N2等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1个流量为100 SCCM,1个流量为200 SCCM
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产品规格
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主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg
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标准配件
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1
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直流电源控制系统
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2套
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2
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射频电源控制系统
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1套
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3
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膜厚监测仪系统
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1套
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4
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分子泵(德国进口)
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1台
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5
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冷水机
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1台
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6
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冷却水管(Ø6mm)
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4根
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可选配件
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金、铟、银、铂等各种靶材
掩膜版
振动样品台
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