沈阳科晶自动化设备有限公司
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主营:真空镀膜机、溅射蒸碳仪、等离子溅射仪、等离子清洗机、等离子表面处理机、磁控溅射仪、切割机、研磨机、抛光机、研磨抛光机、精密切割机、低速切割机
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产品详情

全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪
  • 产品型号:ME-L
  • 产品展商:科晶
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2018-08-15
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简单介绍
ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的**技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。 双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等上等硬件模块,软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
产品描述

产品型号

ME-L全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪

主要特点

1、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)

2、可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准

3、基于双旋转补偿器配置,可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素,相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富**的测量信息

4、颐光砖利技术确保在宽光谱范围内,提供上等稳定的各波段光谱

5、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料

6、集成对纳米光栅的分析,可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息

技术参数

1、应用:科研级/企业级

2、基本功能:Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱

3、分析光谱:380-1000nm(支持扩展至210-1650nm)

4、单次测量时间:1-8s

5、重复性测量精度:0.005nm

6、觉对精度(直通测量空气)

  椭偏参数:ψ=45±0.05°△=0±0.1°

  穆勒矩阵:对角元素m=1±0.005;非对角元素m=0±0.005

7、光斑大小:大光斑2-3mm;微光斑200μm

可选配置

波段选择

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度选择

自动:45-90°

手动:55-75°(5°步进),90°

固定:65°

其他选择

Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制)

温控台:室温一600C(供参考,按需定制)

可选配件

1

温控台

 

2

Mapping扩展模块

 

3

真空泵

 

4

透射吸附组件


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