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注册时间:
2009-08-07
联系人:
程文海
电话:
021-61152577
Email:
kevin@emicron.cn
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高精度喷金喷碳仪
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高精度喷金喷碳仪
产品资料
高精度喷金喷碳仪
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称:
高精度喷金喷碳仪
产品型号:
SC7640
产品展商:
其他品牌
产品文档:
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简单介绍
高精度喷金喷碳仪
产品描述
技术参数
1. 工作电压(Operate Voltage): 800V D.C. at 20mA
2. 压 力(Vacuum): >10-2 mbar
3. 工作腔室(Chamber): 156mm直径
4. 靶 材(Target): Gold,Gold/Palladium,Platinum,Nickel,Silver ,Palladium
5. 靶材尺寸(Target Size): 82mm直径,0.1mm厚
6. 溅射速率(Sputter Rate): 金靶,电流10mA时,1nm/Min(见附图)
7. 计时器(Timer): 0~999秒;
8. 抽真空系统(Pump System): 90L/秒抽力的两级无油机械旋转泵;
9. 电 源(Power Supply): 220V~240V
主要特点
可设置自动或手动操作
低电压溅射,可得到更薄的膜厚
不需要冷却
样品台高度可调并可旋转
镀膜厚度均匀,重复性好
磁偏转靶头
环形靶材溅射面积大
仪器介绍
SC7640 是喷金喷碳仪的**产品,可适用于场发射扫描电镜样品的制备的要求,可以喷金,白金等。800V直流低电压溅射是一项新技术,可以保证溅射2~3nm的薄镀层,在十万倍放大倍数的场发射电镜下观察不到粒子团聚的现象,从而保证了形貌像的真实。控制系统可以选择手动或自动控制,而5~7nm厚度的常规喷镀时间小于3分钟。选配CA7625F喷碳附件后就可将喷金部件换成喷碳部件实现喷碳操作,而不需要单独购买一台喷碳仪。
SC7640采用磁电管溅射头,82mm直径的环状靶材更换简单方便,可覆盖到的溅射区域更大。氩气泄漏阀控制真空度从而达到调节等离子体电流的作用,由于是冷溅射所以不需要冷却水。
磁电管溅射头、156mm直径133mm高的耐热玻璃罩及O型密封圈构成封闭的真空腔体,通过外接的无油机械旋转泵可以在几分钟内达到要求的ATM ¬1x10-2 mbar真空度。直径60mm可放置6个标准SEM样品托的样品台高度可调,并能360度旋转,也可以拆除用于放置更大的样品,计时器手动调整的精度是1秒,*大范围是999秒。
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