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HCT ITC 吸入毒性暴露系统

HCT ITC 吸入毒性暴露系统
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简单介绍
HCT ITC 吸入毒性暴露系统 HCT ITC 吸入毒性暴露系统由美盛科技中国公司供应 系统包括:纳米颗粒物产生/监测系统(ISO 10801,10808),自动远程控制/监测系统,自动清洗装置(WITC),**检测物质分散系统;系统都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。
产品描述
HCT ITC 吸入毒性暴露系统
HCT ITC 吸入毒性暴露系统由美盛科技中国公司供应
系统包括:纳米颗粒物产生/监测系统(ISO 10801,10808),自动远程控制/监测系统,自动清洗装置(WITC),**检测物质分散系统;系统都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。



ITC系统配置
系统包括:纳米颗粒物产生/监测系统(ISO 1080110808),自动远程控制/监测系统,自动清洗装置(WITC),**检测物质分散系统;系统都符合GLPREACHGHSOECD要求。
 
ITC吸入毒性暴露系统有整体暴露系统(WITC)和鼻部暴露(NITC)系统两种暴露配置方式。
WITC(整体暴露系统)
 
NITC(鼻部暴露系统)
 
组件介绍
粒物发生器
有旋风和各式各样的颗粒物发生器,可选择所需的粒径范围(nm ~ μm)并输送到暴露室内。有金属和液体气溶胶发生器等多种类型。
 
染毒室
 
       环境传感器
温度:工作范围 -20℃ ~ 70℃,精度 ±0.5℃
湿度:工作范围 10 ~ 90 %,精度 ±3 %
O2传感器:工作范围 0 ~ 25 %,精度 ±0.5 %
CO2:工作范围 0 ~ 5000ppm,精度 ±0.5 %
特殊传感器:CO、NO、VOCs等可选
监测程序
 
HCT吸入系统染毒室控制软件(ITC管理器),可控制单个或多个染毒室。
模块式控制箱 易安装和布置
实时数据获取和显示
    用户自主选择参数设置(数据采集、检测参数值等)
ADS(气溶胶稀释系统)
 
稀释因子:~ 100(可依客户需求调节)
稀释因子精度:通常±10%,*大值的±15%
数据传输:RS-422
    电源:100 ~ 240V60Hz
 
反应气体装置
冲洗装置
排气装置


产品描述·技术参数:

环境条件              温度 0 ~ 50℃
                      湿度 0 ~ 100%RH
检测粒子              NIST可追溯性粒子
粒子发生器       范围 5nm ~ 100μm
                      浓度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
                      产生粒子的标准差 >1.05
                      类型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,Fe2O3,烟灰,CNT(碳纳米),power等
                      可产生单分散或多分散气溶胶
                      气溶胶旋风分离器 5μm
                      符合ISO 10801要求
粒子监测系统        范围 5 ~ 1 000nm(2.5nm可选)
                        *大浓度 108P/cm3
                        扫描时间 90s(可更改)
                        采样流速 0 ~ 1.5lpm
                        工作压力 0.75 ~ 1.05 atm
                        数据采集 PC,320×240分辨率触摸LCD屏
                        扫描纳米粒径谱仪(SNPS系统)
                        OPC(光学计数器) 0.3 ~ 10μm
                        符合ISO 10808要求
浓度控制稀释器        稀释比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量计         0 ~ 50L/min,质量流量控制器
排气流量                0 ~ 500L/min,排风扇和自动控制阀控制
干净空气供应        HEPA过滤系统,除尘效率 0.3μm时可达99.97%
控制和监测系统        环境监测 温度、湿度、压力、空气流量计、O2
                        浓度和粒径分布
                        暴露条件状况
                        互相监测,水冲洗监测等
                        粒子产生、稀释比例、流量控制
                        质量流量控制器
                        补充空气阀和暴露空气阀控制
 
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