武汉迈可诺科技有限公司
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主营:主营产品:Laurell匀胶机/旋涂仪、甩胶台、匀胶台、涂膜机、旋转涂敷仪, Harrick等离子清洗机,PPC微波等离子去胶机, SCE等离子去胶机,Diener等离子清洗机,Cargille光学试剂,恩科优光刻机/曝光机,Carver压片机/热压机,WABASH热压机,DAKE手压机,Alconox粉末清洁剂,EMS加热板/烤胶机,Matrix程序剪切仪/层压机,Matrix血糖试纸剪切仪,Novascan紫外臭氧清洗机,Uvocs臭氧清洗机,Uvitron紫外固化箱,Electro紫外固化箱,Wenesco加热板,Unitemp加热板,Semco快速退火炉等。
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匀胶机WS-650Mz-23NPPB

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:匀胶机WS-650Mz-23NPPB
  • 产品型号:WS-650MZ-23NPPB
  • 产品展商:LAURELL
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2018-08-29
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简单介绍
匀胶机(英文名:Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍:匀胶机(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称:匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层机
产品描述
 

一、产品概述:
   
匀胶机WS-650Mz-23NPPB适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。美国Laurell匀胶机具有稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性,这正是650S 型匀胶机的特点。二、匀胶机工作原理:
匀胶机WS-650Mz-23NPPBspin coater)的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,甩胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

 

三、匀胶机WS-650Mz-23NPPB主要性能指标:
1
、腔体尺寸:9.5英寸 (241 毫米)

2Wafer芯片尺寸:10-150mm直径的材料,方片125x125mm,小于10mm提供3mm的转接托盘);

3、转动速度:0-12,000rpm

4、旋涂加速度:0-30000rpm/sec(空载);

5、马达旋涂转速:稳定性能误差 < ±1%

6、转速调节精度:<0.2rpm,重复性< 0.2rpm

7、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;

8、匀胶机材质:NPP天然聚丙烯材质,抗腐蚀性和抗化学物性,美观大方;

9、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%

10、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;

11、分辨率:分辨率小于0.5/分,可重复性小于±0.5/分,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!]
12
、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;

13、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;

14、原装进口水平测试仪; 

可选配置:

IND构造为湿站系统设计,带远程控制;

OND构造为手套箱系统设计,带远程控制;

UD自动滴胶装置:UD-3带倒吸装置的多喷嘴可编程针筒,

EBR(Edge Bead Remover):晶圆去边,机械装置;

http://www.mycrohk.com/spinprocessor

 

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