晶圆，光掩膜和基板清洁系统

功能：

• 可处理高达8英寸的晶圆，包括未安装的晶片以及胶带环形和薄膜框架安装晶片。

• 振荡高压直流水，风扇射流组装(取决于高达1500或2000磅/平方英寸 配置上)或雾化喷雾喷嘴，高效清洁。

• 快速有效干燥的氮气吹扫和循环结束时的氮晶片提升。

• 微处理器控制并储存多种配方。

• 直流无刷主轴电机变速。

• DI水净化，营造无**系统。

• 内置**联锁和正极盖，运行期间锁定。

选项:

• 托盘，*大可装载8英寸晶片

• 用于干燥的红外线加热灯

• 消除静电的二氧化碳再生离子器

• 内置排气鼓风机

• 真空发生器

产品参数：

• 产品：晶圆，光掩膜和基板清洁系统  

• 型号：SCS112

• 可用机械臂：1

• *大基板尺寸：高达8英寸的晶圆片

• *大主轴速度：2500

• 配方：*多3

• 分配：1

• 尺寸：26英寸宽x 21英寸深x 40英寸高

• 重量：约200磅

• 功率：220伏交流电，10安培，50/60赫兹

主营产品：

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统，湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

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