武汉迈可诺科技有限公司
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主营:主营产品:Laurell匀胶机/旋涂仪、甩胶台、匀胶台、涂膜机、旋转涂敷仪, Harrick等离子清洗机,PPC微波等离子去胶机, SCE等离子去胶机,Diener等离子清洗机,Cargille光学试剂,恩科优光刻机/曝光机,Carver压片机/热压机,WABASH热压机,DAKE手压机,Alconox粉末清洁剂,EMS加热板/烤胶机,Matrix程序剪切仪/层压机,Matrix血糖试纸剪切仪,Novascan紫外臭氧清洗机,Uvocs臭氧清洗机,Uvitron紫外固化箱,Electro紫外固化箱,Wenesco加热板,Unitemp加热板,Semco快速退火炉等。
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产品详情

蚀刻和剥离系统

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:蚀刻和剥离系统
  • 产品型号:CESx124
  • 产品展商:其它品牌
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2020-04-08
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简单介绍
简介:这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项,Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项;用于化学制剂的低压喷嘴;化学加热器和DI-H20;用于表面搅拌以加快反应的刷子,和/或DI H20等。
产品描述

特点:

• 专为重要控制和**而设计的系统。

• 多达9x9英寸/ 300mm直径的基板兼容性。

• 主轴组件具有直流无刷伺服电机,可实现**的速度控制和分度。

• 特氟龙涂层不锈钢臂可调节臂速度和行进位置。

• 径向排气腔,用于*大层流,盖子顶部有N2进料。

• DI-H20加热器,用于清洁和干燥辅助。

• 过程中包含化学相容性材料PVDF或可选的PTFE

• 独立式聚丙烯柜。

• 微处理器控制功能可以在存储器中保留三十(30)步的配方,每个配方有三十(30)步。配方和步骤的数量均可根据要求扩展。

• 内置**联锁和双重控制。

• 用联锁装置冲洗整个工艺区域和基材的pH值,以禁止进入工艺区域并控制排放和主轴转速直到**。

• 按钮盖打开/关闭。

• 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和**锁定,并带有屏幕错误报告。

• 用于化学和房屋排水的排水分流阀。

• 设计符合SEMI S2 / S8准则。

 

技术参数:

• 产品:蚀刻和剥离系统

• 型号:CESx124

• 可用机械臂:4

• *大基板尺寸:13英寸直径

• *大主轴速度:2500

• 配方:高达30

• 分配管路:12

 

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