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主营:主营产品:Laurell匀胶机/旋涂仪、甩胶台、匀胶台、涂膜机、旋转涂敷仪, Harrick等离子清洗机,PPC微波等离子去胶机, SCE等离子去胶机,Diener等离子清洗机,Cargille光学试剂,恩科优光刻机/曝光机,Carver压片机/热压机,WABASH热压机,DAKE手压机,Alconox粉末清洁剂,EMS加热板/烤胶机,Matrix程序剪切仪/层压机,Matrix血糖试纸剪切仪,Novascan紫外臭氧清洗机,Uvocs臭氧清洗机,Uvitron紫外固化箱,Electro紫外固化箱,Wenesco加热板,Unitemp加热板,Semco快速退火炉等。
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产品详情

纳米压印机

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:纳米压印机
  • 产品型号:CNI v2.1
  • 产品展商:丹麦Nilt
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2020-02-07
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简单介绍
CNI v2.1是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,*大可处理Ø100毫米(4英寸)所有形状和格式的印章和基板。该系统是手动装卸印章和基板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。
产品描述

纳米压印机应用:过去五年中,石墨烯的气体传感器引起了极大的兴趣,显示出单分子检测。

*近的研究表明,与非图案化层相比,石墨烯的图案化强烈地增加了灵敏度。

通过标准程序生长CVD石墨烯,然后转移到Si/SiO 2基板上进行进一步处理。 如(Mackenzie2D Materials[http://dx.doi.org/10.1088/2053-1583/2/4/045003]中所述,使用物理阴影掩模和激光烧蚀来定义接触和器件区域。

使用软压印在CNI v2.0中进行热纳米压印光刻,将mr-I7010E压印抗蚀剂在130℃,6巴压力下压印10分钟,压力在70℃下释放。

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