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主营:主营产品:Laurell匀胶机/旋涂仪、甩胶台、匀胶台、涂膜机、旋转涂敷仪, Harrick等离子清洗机,PPC微波等离子去胶机, SCE等离子去胶机,Diener等离子清洗机,Cargille光学试剂,恩科优光刻机/曝光机,Carver压片机/热压机,WABASH热压机,DAKE手压机,Alconox粉末清洁剂,EMS加热板/烤胶机,Matrix程序剪切仪/层压机,Matrix血糖试纸剪切仪,Novascan紫外臭氧清洗机,Uvocs臭氧清洗机,Uvitron紫外固化箱,Electro紫外固化箱,Wenesco加热板,Unitemp加热板,Semco快速退火炉等。
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产品详情

臭氧清洗机

  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:臭氧清洗机
  • 产品型号:PSD-6
  • 产品展商:MYCRO
  • 产品文档:无相关文档
  • 发布时间:2018-08-06
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简单介绍
MYCRO的PSD系列紫外臭氧清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用,我们的设备能用于清洗原子力显微镜探针,扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料,也能用来改变物体表面的疏水性,有助于部件和表面的化学改性,经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状,削尖的探针有利于提高侧向分辨率。
产品描述

MYCRO的PSD系列紫外臭氧清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用,我们的设备能用于清洗原子力显微镜探针,扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料,也能用来改变物体表面的疏水性,有助于部件和表面的化学改性,经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状,削尖的探针有利于提高侧向分辨率。
我们的臭氧清洗机设备已经用于纳米技术,化学,生物学,光学,电子学,半导体和其他全球范围内的科学实验室。
一般特性:
电 源:100.120.220.240VAC.50-60周期。
样品高度:所有系统都配置可调节高度的样品台,调节灯与样品之间的间距,并带位置锁定,标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。
UV格栅灯:产生臭氧的低压汞格栅灯,带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。
UV反射罩:UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。
样品放置:打开清洗腔上盖,露出样品台,允许360度装入样品。
**装置:当清洗腔打开时,系统**锁会关掉UV灯。
进出气口:标准配置2个气接口,可选更多。(PSD-UV3为选项)
真空反应腔:选项客户化定制,铝或石英材料。
温度范围:150摄氏度。(PSDP-UVT 标准配置或者PSDP 升级选项)
臭氧中和器:中和器和泵用于臭氧排除。(PSD和PSDP选项)
 
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