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- 产品名称：精密刻蚀镀膜仪
- 产品型号：PECS II
- 产品展商：其它品牌
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简单介绍
PECS II精密刻蚀镀膜仪是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。内置了一个 10 英寸的触摸屏。不管新手还是专家级用户，都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及储存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。
产品描述
PECS II精密刻蚀镀膜仪
仪器简介：
PECS II精密刻蚀镀膜仪是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。
对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。
一款完全独立、结构紧凑的台式设 备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在 SEM， 光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。
采用 WhisperLok®技术，可选 配温控液氮冷却台。该功能有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化。
PECS II精密刻蚀镀膜仪内置了一个 10 英寸的触摸屏。不管新手还是专家级用户，都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及储存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。
性能优点：
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WhisperLok 系统： 无需破坏主样品室真空即可装卸样品。
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低能聚焦潘宁离子枪：可加工对表面损伤敏感的样品，包括 EBSD和 CL。
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能量从0.1 – 8.0 keV可调: 改进低能抛光效果，减少非晶层；提供更高的能量，以提高抛光速度。
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液氮样品冷却： 保护样品，避免离子束热损伤，去除可能的假象。
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10 英寸触摸屏控制：快速，简便地访问所有的控制参数；无需电脑。
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数码变焦显微镜： 实时监控加工过程。
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DigitalMicrograph 软件彩照存储： 将存储的光学图像与其他分析系统的数据做关联分析。
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溅射沉积： 溅射靶材至样品表面，防止样品在 SEM/FIB 中发生荷电。
主要应用：
技术规格：
离子源
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离子枪
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两个配有稀土磁铁的潘宁离子枪
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抛光角度
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0 到18°，每支离子枪可独立调节
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离子束能量 (kV)
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0.1 – 8.0
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离子束流密度峰值(mA/cm2)
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10
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抛光速率 (µm/h)
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90（对于硅试样）
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离子束直径
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可用气体流量计或放电电压来调节
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样品台
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样品大小(长 × 宽 ×高, mm)
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32 × 15
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转速 (rpm)
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1 – 6
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离子束调制
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角度范围可调的单向调制或双向调制
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样品观察
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数码变焦显微镜，配有 PC 及 DigitalMicrograph 软件（选配件）
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真空系统
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干泵系统
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两级隔膜泵支持 80 L/s的涡轮分子泵
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压力 (torr)
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基本压力
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5 × 10-6
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工作压力
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8 × 10-5
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真空规
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冷阴极型，用于主样品室；固体型，用 于 前级机械泵
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样品气锁
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WhisperLok技术，样品交换时间小于1 分钟
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用户界面
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10 英寸彩色触摸屏
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操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作
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尺寸及使用要求
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外形尺寸 (长 × 宽× 高, mm)
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575 × 495 × 615
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运输重量(kg)
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45
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功耗 (W)
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运行时
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200
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待机时
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100
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电源要求
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通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用户指定电压和频率）
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氩气(psi)
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25
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订货编号：LR-200636
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