高通量多孔板优化电穿孔系统 HT-MOS

       准确性：
拥有**技术的复合电极消除交叉污染，随板附送的平板盖保证样品的洁净。
 
快速性
**的高通量表现，在数秒间完成多个样品的电穿孔，适用于条件优化选择。
 
应用广：
广泛适用于高通量进行电穿孔条件优化的实验：哺乳动物细胞转染；**、酵母和植物细胞的转化；siRNA和cDNA文库构建等。
脉冲发生器：给MOS板处理仪提供电脉冲，与ECM630或ECM830兼容。
MOS板处理仪： HT-100MOS板处理仪需手动使脉冲一列一列依次进行，HT-200MOS板处理仪可自动将脉冲逐列传递。
电压范围： 0 to 3000 V 直流电脉冲
脉冲时间： 10μsec to 10 sec
脉冲次数： 1 to 99
MOS板：每一个MOS板包含96（8×12）或25（5×5）个独立的小孔，每列设置不同的电穿孔参数，可进行快速的参数优化，用于高通量
的样品处理。电极材料为铝合金，有不同的间距满足用户的不同需求。