反射光谱薄膜测厚仪 TFMS-LD

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

• 氧化物
• 氮化物
• 光刻胶
• 半导体（硅，单晶硅，多晶硅等）
• 半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）
• 硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）
• 聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
• 金属膜（点击图片可查看详细资料）
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特点

• 测量和数据分析同时进行，可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜
• 包含了500多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
• 体积较小，方便摆放和操作
• 可测量薄膜厚度，材料光学常数和表面粗糙度
• 使用电脑操作，界面中点击，即可进行测量和分析

精度

0.01nm或0.01%

准确度

0.2%或1nm

稳定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

标准3mm,可以小至3um

要求样品大小

大于1mm

分光仪/检测器

• 400 - 1100 nm 波长范围
• 光谱分辨率: < 1 nm
• 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W
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光源

• 5W的钨卤素灯
• 色温：2800K
• 使用寿命:1000小时

反射探针

• 光学纤维探针，400um纤维芯
• 配有分光仪和光源支架

载样台

测量时用于放置测量的样品
 

通讯接口

USB接口，方便与电脑对接

TFCompanion软件

• 强大的数据库包含两500多种材料的光学常数（n：折射率，K：消失系数）
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• 误差分析和模拟系统，保证在不同环境下对样品测量的准确性
• 可分析简单和复杂的膜系
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设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg