PECVD系统炉 PECVD炉 TL1200-H-PE-I

该PECVD系统炉在传统PECVD系统基础上实现了快速加热、冷却功能，该炉底部安装了一对滑轨，可手动滑动。采用双层壳体结构。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的**。加热和冷却速率*大可达100°C/min。为取得*快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得*快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/S，是低成本快速热处理的理想炉。

PECVD系统炉技术参数： 

1.温控方式：智能化30段可编程控制            2.*高温度：1200℃                 3.电压：220V 

4.额定温度：1150℃                           5.热电偶：K型                      6.加热段长：400mm

7.加热元件：瑞典Kanthal-A1电阻丝                                

8.升温速率：≤20℃/min   推荐升温速率：≤10℃/min       

9.真空法兰和接头：详细参数请转看第31页  

10.质量流量计：详细参数请转看第31页   

11.射频电源：详细参数请转看第31页