X射线晶体分析仪 GG41-JF-2000
产品简介
技术参数 1.管电压:10~60KV由单片机自动控制(1KV/step) 2.管电流:5~80mA由单片机自动控制(1mA/step) 3.管电压、管电流稳定度≤0.3‰ 4.额定输出功率:3KW 5.有无压、无流、过压、过流、过功率、无水、X光管超温保护。 主要特点1.冷却装置:自带制冷系统,无需外接水循环,并自动控制水温及显示X光管温度。 2.外射线计量不大于2.5μSv/h 3.X光管:额定
产品详细信息
技术参数
1.管电压:10~60KV由单片机自动控制(1KV/step)
2.管电流:5~80mA由单片机自动控制(1mA/step)
3.管电压、管电流稳定度≤0.3‰
4.额定输出功率:3KW
5.有无压、无流、过压、过流、过功率、无水、X光管超温保护。
主要特点
1.冷却装置:自带制冷系统,无需外接水循环,并自动控制水温及显示X光管温度。
2.外射线计量不大于2.5μSv/h
3.X光管:额定功率2KW(铜靶)
4.定时:单片机自动定时,定时时间任意选择。
仪器介绍
该仪器主要用于研究物质内部微观结构。如:单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。